For example, there is a desire for resist compositions exhibiting improved development characteristics (e.g., resolution, development speed, contrast, shrinkage, etc.), improved etch resistance, and improved lithographic process window.
例えば、改善された現像特性（例えば解像度、現像スピード、コントラスト、収縮など）、改善された耐エッチング性、及び改善されたリソグラフィ・プロセス・ウィンドウを示すレジスト組成が待望される。
While a photoresist composition must possess desirable optical characteristics to enable image resolution at a desired radiation wavelength, the photoresist composition must also possess suitable chemical and mechanical properties to enable transfer to the image from the patterned photoresist to an underlying substrate layer(s).
フォトレジスト組成は、所望の放射線波長での像解像度を可能にする所望の光学特性を所有しなければならない一方、パターン化されたフォトレジストから、下側の基板層への像の転写を可能にする、適切な化学的属性及び機械的属性を有さねばならない。
The physical properties and especially the CTEs and elastic moduli of glass fabrics and the weaving characteristics of the fabric which control the volume fractions of glass in a fabric.
ガラス織物の物理的性質、特に熱膨張係数及び弾性率、及び織物におけるガラスの容積比を制御する織物の織り特性。
excellent shock absorbing characteristics
優れた衝撃吸収特性