51ee9f0c.jpg In general terms, there can be seen a substrate support plate 9, an axial support column 10 secured to the substrate support plate 9 and carrying a substrate support block 11, itself containing in conventional manner RF electrodes 12, heater means 13, and a clamping ring 14 adapted to hold the substrate 15, e.g. a semiconductor wafer.
一般に、基板支持板9、該基板支持板9に固定されかつ自身に従来の様式でRF電極12を含んだ基板支持ブロック11を支持する軸方向の支持柱10、ヒータ手段13及び基板15、例えば半導体ウエハを保持するように構成された締め付け(clamping)リング14が存在している。
A microelectronic substrate handling device comprising first and second support structures spaced from each other, the first support structure having a series of upper teeth defining a series of upper notches extending along a length of the first support structure and a series of lower teeth defining a series of lower notches extending along a length of the first support structure, each of the upper and lower notches opening toward the second support structure, wherein the upper and lower notches are offset from each other by a predetermined offset distance so that an edge of a microelectronic device will fit differently within the upper and lower notches of the first support structure when supported between the first and second support structures.
マイクロエレクトロニックデバイス用基板の操作装置に第1と第2の支持構造を互いに離間させて備える。第1の支持構造の上方に一連の歯を備えて支持構造の長手方向に沿って延びるように上方に一連のノッチを定め、かつ下方に一連の歯を備えて支持構造の長手方向に沿って延びるように下方に一連のノッチを定めて、上方と下方のノッチの両方を第2支持構造に対してアパーチャさせる。この際、上方と下方のノッチを互いに所定の距離でオフセットさせて、第1と第2の支持構造の間にマイクロエレクトロニックデバイス用基板を支持させるとき、基板の縁部を上方と下方のノッチ内に異なるように取付ける。
Tube 18 is adapted to be received within a square steel tube center coupling 20 of foot support 12.
チューブ18は、足支持体12の角スチールチューブ中心連結部20内に入れ込まれるようになされている。
Foot support 12 is detachably connected to the wheelchair by a square steel tube 18 extending outwardly from the wheelchair frame.
足支持体12は、車いすフレームから外方に延長した角スチールチューブ18によって、車いすに着脱自在に連結されている。
This feature of the device allows the arm rests 60 and saddle 84 to be raised to the height required to support the user when the device is to be used as a walker.
本装置のこの特徴は、本装置が歩行器として使用されるべきときに、利用者を支持するために必要な高さまでアームレスト60とサドル84を持ち上げることができるようにする。
In this embodiment, back support frame 40’ is adapted to receive and support linear actuator 108.
この実施例では、背凭れ支持フレーム40’ は、リニアアクチュエータ108を受容しかつ支持するようになされている。
As for representative exhaust gas purifying catalysts, three-way catalysts where a noble metal such as platinum (Pt), rhodium (Rh) and palladium (Pd) is supported on a porous metal oxide support such as y-alumina are known.
排ガス浄化触媒の代表的なものとしては、白金(Pt)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)等の貴金属をγ−アルミナ等の多孔質金属酸化物担体に担持させた三元触媒等が知られている。
However, in recent years, for accelerating the purification of the exhaust gas by using chemical properties of the support, it has been proposed to use various other materials such as ceria (Ce02), zirconia (Zr02) and titanium (Ti02) in combination with, or not in combination with, alumina.
しかしながら近年では、担体の化学的性質を利用して排ガスの浄化を促進するために、セリア(CeO2)、ジルコニア(ZrO2)、チタン(TiO2)等の様々な他の材料を、アルミナと組み合わせて又は組み合わせないで、使用することも提案されている。
A suitable vacuum is established inside the plasma source 1 and the diffusion chamber 2, and nitrogen in the form of gaseous nitrogen N2 or ammonia NH3 is introduced at the upstream end via the gas inlet 7, silicon is brought into the diffusion chamber in post-discharge via the post-discharge gas inlet 8 in the form of silane SiH4, and the plasma is generated by powering the RF generator 6. The plasma propagates into the diffusion chamber 2 as far as the substrate carried by the substrate support 3. A deposited layer of silicon nitride Si3N4 is thus formed on the substrate.
プラズマ源1及び拡散室2内に適切な真空状態が確立され、窒素は気体窒素(N2)又はアンモニア(NH3)の形態でガス注入口7を介して上方端に導かれ、シリコンはシラン(SiH4)の形態でポストディスチャージガス注入口8を介してポストディスチャージ内の拡散室に運ばれ、RF発生器6に給電することによってプラズマが発生される。このプラズマは基板支持体3によって基板が支持されている限り拡散室2に伝搬する。このようにして窒化シリコン(Si3N4)の堆積層が基板上に形成される。
a support impregnated with a mixture of at least one oxide of an element selected from
〜から選択される元素の少なくとも一種の酸化物の混合物を含浸した支持体
The foot support 12 is shown in greater detail in FIGS.2 and 3.
足支持体12は、図2及び3に更に詳細に示されている。
More particularly, the present invention relates to a detachable foot support assembly that has adjustable wheels to allow it to function as an anti-tip device or to assist the wheelchair in overcoming obstacles.
更に詳細には、本発明は、テイッピング防止装置として機能できるようにするための、あるいは車いすが障害物を乗り越えるのを助けるための調節可能な車輪を有する取り外し可能な足支持構体に関する。
lower end of the first support 7 is pivotally connected to the upper end of the second support 17
1支持体7の下端と第2支持体17の上端とを枢結させ
catalyst comprising refractory support material and at least one metal of Group VI
耐火性支持材料及び少なくとも一種のVI族金属を含む触媒
inorganic support material in granular form having an average diameter of from
平均直径が〜の粒子状の無機支持材料
The present invention relates to wafer support systems that are useful for supporting and handling wafers, such as semiconductor wafers, during various wet processing, cleaning and drying operations.
本発明は、ウエハを保持し、処理するのに有用なサポートシステムに関し、特に、様々なウェット処理と、洗浄及び乾燥処理を行う際、半導体ウエハを保持し、処理するのに有用なサポートシステムに関するものである。
supported rotatably by the support 31
支持体31に回転可能に軸支され
The wheelchair back support assembly described above provides an inexpensive back support with a simple construction of only a few component parts that can be easily retrofit to a tubular frame of an existing wheelchair, replacing the wheelchair's original back support.
上述した車椅子用背中支持構体は、部品点数の少ない簡潔な構造を有しており、既存の車椅子の管状フレームに、その車椅子の本来の背中支持体と交換して、容易に装着できる廉価な背中支持体を提供する。
Again, because of the high level of sophistication of the vacuum packaging process, it is vital that the supplier of equipment and materials be capable of providing technical support in the field.
繰り返しになるが、真空包装工程が非常に高度になったので、機器と資材のサプライヤが現場で技術サポートを提供できることが不可欠である。
For example, in order to alleviate the fluctuation of oxygen concentration in the exhaust gas and thereby increase the exhaust gas purifying ability of the three- way catalyst, a material having an oxygen storage capacity (OSC) of storaging oxygen when the oxygen concentration in the exhaust gas is high, and releasing oxygen when the oxygen concentration in the exhaust gas is low, is used as a support for the exhaust gas purifying catalyst.
例えば、排ガス中の酸素濃度の変動を吸収して三元触媒の排ガス浄化能力を高めるために、排ガス中の酸素濃度が高いときに酸素を吸蔵し、排ガス中の酸素濃度が低いときに酸素を放出する酸素吸蔵能(OSC能)を有する材料を、排ガス浄化触媒のための担体として用いることが行われている。
The metal oxide support may be formed of various materials but, in order to obtain a high surface area, alumina(A1203) has been heretofore generally used.
この金属酸化物担体は様々な材料で作ることができるが、従来は高表面積を得るためにアルミナ(Al2O3)を使用することが一般的であった。
to replace an existing back support
既存の背中支持体と取り替えるように
wheelchair back support assembly
車椅子用背中支持構体
The present invention pertains to a wheelchair back support assembly that is designed to be retrofit to a wheelchair or to replace an existing back support of a wheelchair.
本発明は、車椅子にレトロフィットされるように又は車椅子の既存の背中支持体と取り替えるように設計された車椅子用背中支持構体に関する。
replacing the wheelchair’s original back support
車椅子の本来の背中支持体と取り替えて
inexpensive back support
廉価な背中支持体
The wheelchair back support assembly provides an inexpensive back support with a simple construction of only a few component parts that can be easily retrofit to a tubular frame of an existing wheelchair, replacing the wheelchair’s original back support.
この車椅子用背中支持構体は、部品点数の少ない簡潔な構造を有しており、車椅子の本来の背中支持体と取り替えて、既存の車椅子の管状フレームに容易に装着できる廉価な背中支持体を提供する。
To accomplish this, separate nozzles 34, 34a are used in the region around substrate support 14; also an oxygen pathway 70 is formed in a body 72 mounted to the top 75 of enclosure 6.
このことを達成するために、別々のノズル34、34aが、基板支持体34の周りの領域で用いられ、また、酸素経路70が囲壁部6の頂部75に据え付けられた本体72中に形成される。
The computer program dictates the various operating parameters, such as timing, mixture of gases, chamber pressure, substrate support temperature and RF power levels.
コンピュータプログラムは、種々の作動パラメータ、例えば、時間、ガスの混合、チャンバ圧、基板支持体温度及びRF電流レベルを指示する。
Center nozzle 56 has an orifice 64 positioned centrally above substrate support surface 16.
中心ノズル56は、基板支持体表面16の中心の上に配置されたオリフィス64を有する。
The orifices 38 of nozzles 34, 34a are arranged above the periphery 40 of substrate support 14 and thus above the periphery 42 of substrate 20.
ノズル34,34aのオリフィス38は、基板支持体14の円周部40上に、従って基板20の円周部42上に配置されている。
Substrate support 14 acts as a cathode and is connected to a bias RF generator 22 through a matching circuit 24.
基板支持体14は、陰極として働き、そしてマッチング回路24を通じてバイアスRF発生器22に連結されている。
Surface 16 is used to support a substrate 20 within chamber 18.
表面16は、チャンバ18内に基板20を支持するために用いられる。
Chamber 2 also includes a water-cooled substrate support 14 having a substrate support surface 16 within the vacuum chamber 18 defined within housing 4.
チャンバ2はまた、ハウジング4により規定されたその内部の減圧チャンバ18内に基板支持表面16を有する、水冷式の基板支持体14を含む。
Reference is now made to FIGS. 2 and 3 which show the substrate support 3 in an embodiment of the invention on a larger scale.
ここで本発明の実施形態の基板支持体3を拡大して示す図2及び3を参照する。
Reference is now made to FIGS.2 and 3 which show the substrate support 3 in an embodiment of the invention on a larger scale.
ここで本発明の実施形態の基板支持体3を拡大して示す図2及び3を参照する。
The invention seeks to reduce the harmful effects of bombardment with the charged particles present in the plasma by interposing a selective trap between the plasma and the substrate carried by the substrate support 3.
本発明はプラズマと基板支持体3によって支持された基板との間に選択的トラップを挿入することによって、プラズマに存在する帯電した粒子の攻撃の悪影響を低減しようとするものである。
To perform a plasma-enhanced chemical vapor deposition method, a substrate is placed on the substrate support 3 which is fitted into position 3a in the diffusion chamber.
PECVD法を実行するために、基板は拡散室の位置3aに取り付けられた基板支持体3上に設置される。
The plasma source 1 communicates with the diffusion chamber 2 which is itself adapted to direct the plasma towards a substrate held on the substrate support in position 3a.
プラズマ源1は拡散室2に通じており、この拡散室2自身が位置3aの基板支持体上に保持された基板に向けてプラズマを導くように構成されている。
Reference is made initially to FIG. 1. Apparatus for plasma-enhanced chemical vapor deposition of a dielectric film comprises a plasma source 1, preferably a high-density ion source in order to be capable of operating properly at a lower operating temperature, followed by a diffusion chamber 2 having a substrate support 3 adapted to hold the substrate for treatment and to be engaged in the diffusion chamber 2, as shown in position 3a.
最初に図1を参照する。誘電膜のPECVD装置は、より低い動作温度で適切に動作することができるようにプラズマ源1、好適には高密度イオン源を備え、次に位置3aに示したように、処理のために基板を支持するように、かつ拡散室2内に拘束されるように構成された基板支持体3を有する拡散室2を備えている。
FIG. 2 is a diagrammatic side view in diametral section showing a substrate support provided with a grid constituting an embodiment of the present invention;
図2は、発明の一実施形態を構成する格子を含んだ基板支持体を示す直径断面部分の側面略図である。
The apparatus may include a ring for clamping the is substrate onto its support, and the grid may advantageously be insulated from the ring for clamping the substrate on its support, and may be biased to a potential that is different from the potential of the clamping ring.
この装置は基板をその支持体上に締め付ける(clamping)リングを備えてよく、格子は有利には基板をその支持体上に締め付けるリングから絶縁され、かつその締め付けリングの電位とは異なる電位にバイアスされてよい。
fixing action plates 25, 26 on both sides of a support 24
支持体24の両側に作用板25,26を固着し
the catalyst refractory support material consisting essentially of alumina
本質的にアルミナからなる触媒担持耐火性材料
catalyst is made up of an aluminum oxide support impregnated with at least three of the following oxides
触媒は、アルミニウム酸化物支持体に以下の酸化物を少なくとも三種含浸したものからなる
depend on whether the catalyst is in solution (homogeneous) or on a support material (heterogeneous)
触媒が溶液内(均質)であるか、支持材料上(不均質)であるかによる
proportions exceeding 10% by weight, calculated as metal on the catalyst support
触媒基体上の金属として計算して10重量%を超える比率
the bidentate ligand molecules are bound to the support through ether groups
この二座配位子原子は、エーテル基を介して基体に結合している
with the circular frames mounted on the support rollers
円形フレームを支持ローラに載架した状態で
lack of written description support
明細書にサポートがないこと
support in description [supported by the description]
明細書にサポートがある
support
裏付け、サポート
supplementary argument in support of the opposition
異議申立補充
The portion of thumb screw 42 that extends through support arm 30 is received within and is fixedly secured to a threaded coupler 48.
支持アーム30を貫通して延長している蝶ねじ42の部分は、ねじ付き連結部48内に入れ込まれかつその連結部に固着されている。
without foot support 12
足支持体12を具備していなくても
While the above description has illustrated the use of the anti-tip mechanism in connection with foot support assembly 12, the anti-tip mechanism described above could also be used and coupled to wheelchair 10 without foot support 12.
上記の説明では、このテイッピング防止機構を足支持構体12に関連して使用した場合について例示したが、上述したテイッピング防止機構は、車いす10が足支持体12を具備していなくても、それに使用して連結することができる。
Referring initially to FIG. 1, there is shown a wheelchair 10 and an adjustable foot support assembly 12 that embodies the principles of the anti-tip mechanism of the present invention.
最初に図1を参照すると、車いす10と、本発明の転覆防止機構の原理を具現した調節可能な足支持構体12が示されている。
used in connection with a foot support assembly
足支持機構に関連して使用される
The present invention is directed to an anti-tip mechanism which may be used in connection with a foot support assembly, which may be used on a variety of wheelchairs 10.
本発明は、足支持機構に関連して使用することができ、種々の車いす10で使用できる転覆防止機構に関する。
evidence in support of the reasons
理由を裏づける証拠
detachable foot support assembly
取り外し可能な足支持構体
Each lower vertical track support 52 is disposed in spaced apart facing relation with a corresponding upper vertical track support 54, so that each vertical track 26 is held in place by a lower vertical track support 52 at one end and an upper vertical track support 54 at the opposite end.
各下方垂直トラック支持体52は、対応する上方垂直トラック支持体54に対して離間対面関係で配置され、各垂直トラック26は、一端部では下方垂直トラック支持体52によってかつ他端部では上方垂直トラック支持体54によって所定の位置に保持される。
Quality of Service (QoS) to support service level agreements (SLAs)
サービス品質保証制度(SLAs)を満足させるクオリティ オブ サービス(QoS)
horizontal support member
水平支持部材